研究論文 No.100
TiO2/光触媒フィルタによるホルムアルデヒドの除去特性～強力なＵＶ照射と光触媒ユニットの多段設置による有害生成物の抑制効果～
発表先
日本工業出版㈱ 月刊「クリ－ンテクノロジ－」
発表者
村上栄造
内容
分解性能に優れたTiO2/光触媒フィルタをＵＶランプで挟み込んだ光触媒ユニットを用いて、密閉容器で発生させた約100ppmのホルムアルデヒドを循環処理した。その結果、ＵＶ照射強度を強めると分解除去性能は向上した。また、光触媒ユニットの設置段数を増加（１段→３段）させると、吸着性能は約4.3倍、分解性能は約2.4倍向上させることができ、有害な中間生成物であるギ酸の気相中への放出量を約1/100に抑制できた。